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日本ULVAC爱发科CVD蚀刻Qulee RGM2-201F
日本ULVAC爱发科CVD蚀刻Qulee RGM2-201F
功能
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排气系统和控制系统集成实现垂直定位，*小的占地面积使其即使在空间有限的生产线中也能监测反应气体。
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在维护过程中，灯丝套件的更换速度得到了显著提高，2名工人120分钟的工作量，现在1名工人只需10分钟即可完成。
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双丝允许在**根丝断裂时，无需停止生产线进**体分析。
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使用触摸面板进行实时状态检查。
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从启动到测量的操作仅在计算机上完成。
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使用我们公司独特的带磁体封闭离子源，即使在反应过程中也能进行长时间和稳定的测量。
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高度敏感的电离室具有低气体解离性，仅使用法拉第杯即可进行高灵敏度气体分析。
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紧凑型通道控制阀，可防止由于热反应引起的分解和吸附。
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减少了从反应室到离子源的距离，使快速响应分解成为可能。
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增强预防性维护功能
离子源和二次电子倍增管的预防性维护
安装分析管的可追溯性功能 -
标准软件兼容Windows 8/10/11。
应用程序
在CVD/ALD/刻蚀设备中
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在过程中对反应性气体的监测
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蚀刻清洗过程的端点监测
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残余气体测量
规格
传感器
| 质量数范围 (amu) | 1~200 | |
| 分辨率 (M/ΔM) | M/ΔM=1M(10%P.H.) | |
| 探测器 | 法拉第杯 (FC) | |
| 灵敏度 (A/Pa) *1 |
1e-5A/Pa（直接孔口安装，Ie=50uA） N2气体在Ee50V时 =5e-4Pa |
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| 检测到的分压 (Pa) *1 | e-10Pa (EE50V, Ie500uA) | |
| 总压测量功能*1 | 是的。 | |
| 总压力测量范围 *1 | 1e-3 ~ e-6 帕 | |
| 离子源 | 带磁体的封闭离子源 | |
| 灯丝 | Ir/Y2O3 2件（其中一件是备用件） | |
| 电离电压 (EE; 电子伏特) | 20~70eV（推荐Ie50 uA时使用50 V设置） | |
| 发射电流 (IE; 微安) | 50uA/500uA (EE50V，推荐用于过程测量的50uA) | |
差速排气系统
| 连接法兰 | VCR1/2 "Osnut 等效 | |
| 规格压力 | 选择0.5~30 Pa/10~500 Pa | |
| 涡轮分子泵 | UTM70B (70升/秒) | |
| 前线泵 |
无 前线进口：KF16 保证运行前线压力：500 Pa或更低 前线压力检查皮拉尼真空计：SW100-A |
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| 真空计用于监测设备压力 | 电容式压力计 “型号:CCMT" | |
公用设施
| 电源电压 | 选择 AC100~120 V/6 A，AC200~220 V/3 A | |
| 压缩空气 | 干氮气：0.4MPa | |
其他
| 质量 | 20公斤 | |
| 控制单元 | 触摸面板 | |
| 模块型加热单元 | 110°C±10°C | |
选项
| 分析管 | RGM-AN202/302 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 灯丝 | QFL-002 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 离子源 | RGM-IS01 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 二次电子倍增管 (SEM) | QEM-001 | RGM(2)-202/302, HGM(2)-202/302 共享 |
| RGM 孔 | QOF-100 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-040 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-010 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-005 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |