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日本ULVAC爱发科高真空泵低温泵CRYO-U4H
日本ULVAC爱发科高真空泵低温泵CRYO-U4H
CRYO-U4H是日本ULVAC（爱发科）推出的一款高真空低温泵，隶属于CRYO-U系列，依托品牌70余年真空技术积淀，专为半导体、电子设备、光学及科研等领域的高真空需求场景设计。该产品采用两级GM制冷机技术，可稳定实现高真空至超高真空环境，为精密制造与前沿研究提供可靠的真空保障。
二、核心性能优势
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抽气效率：作为4英寸规格低温泵，CRYO-U4H具备强劲抽速表现，20℃环境下氮抽速可达450升/秒，氢抽速500升/秒，水抽速更是高达1100升/秒，能快速建立并维持真空环境，显著提升生产与实验效率。极限压力可达10^-7帕，满足超高真空应用标准。
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智能集群控制：支持单压缩机驱动多台泵体运行，*多可串联4台CRYO-U4H，大幅降低设备投入与运维成本，尤其适合多工位生产线集中管控。
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定制化适配：可根据客户应用场景进行针对性设计调整，如优化冷却路径、适配特殊接口等，灵活匹配半导体溅射工艺、小型精密仪器研发等多样化需求。
三、技术与结构特点
产品采用闭式循环氦制冷系统，无需频繁补充冷却液，实现长期稳定运行。制冷机分为两级：**制冷能力强劲，可将温度降至80K以下，为二级制冷提供热屏蔽；二级制冷虽功率较小，但能将冷头温度降至10-12K，通过15K低温面板实现气体冷凝与吸附。80K级屏蔽层有效减少热辐射干扰，保障低温面板制冷效率。整机重量仅14.5公斤，紧凑设计节省安装空间，同时具备低震动、低噪音特性，适配精密环境要求。
四、品牌与服务保障
ULVAC作为全球真空技术企业，在苏州、上海、成都等地设立生产与服务基地，为中国客户提供本地化技术支持与售后保障。CRYO-U4H凭借稳定性能与品牌口碑，成为半导体芯片制造、光学元件镀膜等领域的核心真空设备之一
功能
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4英寸低温泵的出色抽气性能
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高泵速提高了泵送效率和生产力。
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理想用于半导体制造的溅射过程，或其它小型设备
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一个压缩机可以驱动多达四个装置。
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定制设计可以满足您的需求。
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